半導體設備以及LCD設備之關鍵零組件及耗材多應用於前段製程,如:離子植入、微影顯像、化學氣相沈積成膜、蝕刻、濺鍍、洗淨、長晶等製程設備,其中有一大部份是使用在真空腔體環境中 ,也因在真空腔體環境下長時間使用化學氣體的情況下,腔體內部所需使用的零件就特別需要注意是否可以耐酸鹼,耐腐蝕,耐磨擦…等。